装置機器

極低温ユースポイント制御装置

極低温ユースポイント制御装置

-70℃の低温領域で温度制御を実現します。
独自の制御理論により、ユースポイントの温度管理を可能にしました。

電子ビーム励起プラズマ

電子ビーム励起プラズマ

制御された電子ビームを用いてプラズマ空間を制御・プロセスガスの超高解離を実現した高速・高品質表面処理(成膜・エッチング・表面改質)装置。

CCP型プラズマエッチング装置

CCP型プラズマエッチング装置

高精度かつ高信頼性の酸化膜微細加工を実現する平行平板型エッチング装置。超大規模集積回路(ULSI)のSiO2コンタクトホールやSiOCH, 有機系材料による低誘電率薄膜(low-k)エッチングに使用する。

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